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解決方案

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有機(jī)物氧化物清洗

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等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì),正常情況下去除的微粒被氣流帶走,無殘留,避免了液體清洗介質(zhì)清洗帶來的二次污染。被清除的沾污可能有:有機(jī)物、環(huán)氧樹脂、光刻膠、焊料、金屬鹽、氧化物等。對(duì)應(yīng)不同的污染物,應(yīng)采用不同的清洗工藝,一般來說,根據(jù)選擇的工藝氣體不同其清洗的污染物類別也有很大的區(qū)別,有的氣體是用來清洗有機(jī)物,有的氣體是用來清洗氧化物,具體應(yīng)用舉例如下:

氧氣等離子清洗有機(jī)物示意圖

 氧氣等離子清洗有機(jī)物示意圖

有機(jī)物+O2→CO2+H2O

氧氣通過與表面的有機(jī)物發(fā)生氧化反應(yīng)來清潔材料表面。清洗過程中,活潑的氧自由基與碳?xì)浠衔锇l(fā)生反應(yīng),產(chǎn)生的二氧化碳、一氧化碳和水等隨氣流揮發(fā)排出。

氫氣等離子還原氧化物示意圖

氫氣等離子清洗氧化層

H2+非揮發(fā)性金屬氧化物→金屬+H2O

氫氣通過與表面的氧化物發(fā)生還原反應(yīng)來清潔材料表面。出于安全性考慮,建議使用 氬 / 氫混合氣,其中氫氣含量不超過 6% 。


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